高溫環(huán)境XRD即X-ray diffraction，通過對材料進行X射線衍射，分析其衍射圖譜，獲得材料的成分、材料內(nèi)部原子或分子的結構或形態(tài)等信息的研究手段。X射線是一種波長很短(約為20～0.06nm)的電磁波，能穿透一定厚度的物質(zhì)，并能使熒光物質(zhì)發(fā)光、照相乳膠感光、氣體電離。在用電子束轟擊金屬“靶”產(chǎn)生的X射線中，包含與靶中各種元素對應的具有特定波長的X射線，稱為特征（或標識）X射線。

　　x射線是一種具有較短波長的高能電磁波，由原子內(nèi)層軌道中電子躍遷或高能電子減速所產(chǎn)生。X射線的波長范圍為0.01~100A，介于紫外線和y射線之間，并有部分重疊峰。本質(zhì)與可見光相同的電磁波，具有類似于可見光、電子、質(zhì)子、中子等的性質(zhì)--波粒二象性。x射線顯示波動性時，有一定的頻率和波長，表現(xiàn)出衍射現(xiàn)象x射線與可見光相比，除具有波粒二象性的共性之外，還因其波長短、能量大而顯示其特性：①穿透能力強；②折射率幾乎等于1；③透過晶體時發(fā)生衍射。

　　高溫環(huán)境XRD結構分析，對新發(fā)現(xiàn)的合金相進行測定，確定點陣類型、點陣參數(shù)、對稱性、原子位置等晶體學數(shù)據(jù)。液態(tài)金屬和非晶態(tài)金屬研究非晶態(tài)金屬和液態(tài)金屬結構，如測定近程序參量、配位數(shù)等。特殊狀態(tài)下的分析，在高溫、低溫和瞬時的動態(tài)分析。此外，小角度散射用于研究電子濃度不均勻區(qū)的形狀和大小，X射線形貌術用于研究近完整晶體中的缺陷如位錯線等，也得到了重視。

　　X射線分析的新發(fā)展：金屬X射線分析由于設備和技術的普及已逐步變成金屬研究和材料測試的常規(guī)方法。早期多用照相法，這種方法費時較長，強度測量的準確度低。50年代初問世的計數(shù)器衍射儀法具有快速、強度測量準確，并可配備計算機控制等優(yōu)點，已經(jīng)得到廣泛的應用。但使用單色器的照相法在微量樣品和探索未知新相的分析中仍有自己的特色。