場發(fā)射電子源是場發(fā)射電鏡的核心部件，它利用電場作用使電子從鎢或其他高電子親和力材料中釋放出來。場發(fā)射電子源具有較小的尺寸、高亮度和長壽命，能夠提供高束流密度的電子束。電子光學系統(tǒng)包括準直透鏡、電子源支架、電子束磁透鏡和檢測器等組成。通過精確控制透鏡的磁場分布，可以將電子束聚焦到納米尺度下，實現(xiàn)高分辨率成像。樣品臺是電鏡中支持和移動樣品的平臺。樣品臺通常具有高精度的運動系統(tǒng)，可以使樣品在多個軸向上進行精確的定位和旋轉(zhuǎn)，以獲得多角度、高分辨率的成像。

  

　　場發(fā)射電鏡的應用：
 

　　1.納米材料表征：能夠提供亞納米級或更高分辨率的成像能力，對納米材料的形貌、晶體結(jié)構(gòu)和界面性質(zhì)等進行表征，為納米材料的研究和應用提供重要的支持。
 

　　2.生物學研究：在生物學研究中有著廣泛的應用。它可以通過對生物樣品的高分辨率成像，觀察細胞內(nèi)部的亞細胞結(jié)構(gòu)、分子組織以及生物反應的動態(tài)過程，為生物學研究提供重要的視覺信息。
 

　　3.材料科學和工程：在材料科學和工程中的應用也十分廣泛。它可以用于觀察材料的形貌、晶體結(jié)構(gòu)、缺陷和界面等微觀結(jié)構(gòu)，幫助科學家深入了解材料的性質(zhì)和性能，從而指導材料設(shè)計和工程應用。
 

　　4.硬盤存儲技術(shù)：在硬盤存儲技術(shù)中也發(fā)揮著重要作用。它可以通過對硬盤磁頭的形貌和結(jié)構(gòu)的觀察，提供關(guān)于讀寫性能和穩(wěn)定性的數(shù)據(jù)，為硬盤存儲技術(shù)的制造和改進提供有力支持。
 

　　近年來，場發(fā)射電鏡的市場需求持續(xù)增長，主要因素包括新興材料研究、納米技術(shù)的發(fā)展、生命科學領(lǐng)域的研究進展等。此外，對更高分辨率、更高性能和更多功能的需求也推動了市場的發(fā)展。例如，新一代的通常具有更高的分辨率、更大的樣品裝載能力、更高的穩(wěn)定性和更多的顯微成像模式。